Im Rahmen des 29. Annual NYU/ICOI Implant Symposiums in New York City am 10. November 2018 wurde Prof. Dr. Daniel Buser (Universität Bern) mit dem Robert N. Eskow NYUCD Implant Dentistry Award ausgezeichnet. Ein Höhepunkt der Veranstaltung, die mit über 230 Teilnehmern hervorragend besucht war, stellte Prof. Dr. Busers Vortrag „State-of-the-art implant surgery in partially edentulous patients: How much digital technology is used in daily practice“ dar.
Bild: Drs. Stuart Froum, Daniel Buser and Robert N. Eskow (von links)
Der Eskow Implant Dentistry Award ehrt herausragende Leistungen in der oralen Implantologie sowie bedeutende Beiträge zur wissenschaftlichen und klinischen Anwendung derselben. Frühere Preisträger waren unter anderem Prof. P.I. Brånemark (2005) oder Prof. Jan Lindhe (2007). „Prof. Dr. Buser hat sich um diese Ehre hochverdient gemacht“, so Dr. Peter Loomer, klinischer Professor und Vorsitzender der Ashman-Abteilung für Parodontologie und Implantologie der NYU. „Seine Forschung über die Osseointegration hat unser Wissen auf diesem Gebiet grundlegend vorangebracht und die Patientenversorgung signifikant verbessert.“
Wegweisende Forschung in der Osseointegration
Prof. Buser ist Universitätsprofessor und Direktor der Klinik für Oralchirurgie und Stomatologie an den Zahnmedizinischen Kliniken der Universität Bern. Als Autor und Co-Autor von über 300 Fachartikeln, Übersichtsarbeiten, Fallstudien und Buchkapiteln sowie mit mehr als 22’000 Zitierungen seiner Publikationen in einschlägiger Fachliteratur zählt Prof. Dr. Buser zu den renommiertesten Wissenschaftlern in der dentalen Implantologie weltweit. Sein Forschungsschwerpunkt liegt hauptsächlich in der Knochenheilung bei Titanimplantaten, der membrangeschützten Knochenregeneration sowie der Langzeitdokumentation von Implantaten.
Quelle: New York University
